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微區(qū)掃描電化學(xué)的發(fā)展格局

更新時(shí)間:2016-03-30瀏覽:3092次
   微區(qū)掃描電化學(xué)的發(fā)展格局
  微區(qū)掃描電化學(xué)是一個(gè)建立在電化學(xué)掃描探針的設(shè)計(jì)基礎(chǔ)上的,微區(qū)掃描電化學(xué)進(jìn)行高測(cè)量分辨率及空間分辨率的非接觸式微區(qū)形貌及電化學(xué)微區(qū)測(cè)試系統(tǒng)。 微區(qū)掃描電化學(xué)是提供給電化學(xué)及材料測(cè)試以*空間分辨率的一個(gè)測(cè)試平臺(tái)。每個(gè)VersaSCAN都具有高分辨率,長(zhǎng)工作距離的閉環(huán)定位系統(tǒng)并安裝于抗震光學(xué)平臺(tái)上。
  微區(qū)掃描電化學(xué)是一個(gè)模塊化配置的系統(tǒng),可以實(shí)現(xiàn)如下現(xiàn)今所有微區(qū)掃描電化學(xué)技術(shù)以及激光非接觸式微區(qū)形貌測(cè)試:
  Scanning Electrochemical Microscopy (SECM) 掃描電化學(xué)顯微鏡
  Scanning Vibrating Electrode Technique (SVET) 掃描振動(dòng)電極測(cè)試
  Scanning Kelvin Probe (SKP) 掃描開爾文探針測(cè)試
  Localized Electrochemical Impedance Spectroscopy (LEIS) 微區(qū)電化學(xué)阻抗測(cè)試
  Scanning Droplet Cell (SDC) 掃描電解液微滴測(cè)試
  Non-Contact Surface Profiling (OSP) 非觸式光學(xué)微區(qū)形貌測(cè)試
  微區(qū)掃描電化學(xué)以上每項(xiàng)技術(shù)使用不同的測(cè)量探針,且安裝位置與樣品非常接近,但是不接觸到樣品。隨著探針測(cè)試的進(jìn)行,改變探針的空間位置。然后將所記錄的數(shù)據(jù)對(duì)探針位置作圖,針對(duì)不同技術(shù),該圖可以呈現(xiàn)微區(qū)掃描電化學(xué)電流,阻抗,相對(duì)功函或者是表面形貌圖。
  微區(qū)掃描電化學(xué)應(yīng)用:
  不銹鋼和鋁等材料的點(diǎn)蝕檢測(cè)、成長(zhǎng)過程在線監(jiān)測(cè)等;
  有機(jī)和金屬涂層缺陷和完整性研究;
  金屬/有機(jī)涂層界面的腐蝕的機(jī)制與檢測(cè);
  有機(jī)涂層的剝離和脫落機(jī)制;
  鈍化處理的不銹鋼焊接熱影響區(qū)的電位分布;
  干濕循環(huán)的碳鋼和不銹鋼的陰極區(qū)和陽極區(qū)的分布行為;
  薄液層下氧還原反應(yīng)和金屬的腐蝕過程的特征;
  模擬不同大氣環(huán)境的腐蝕電位在線監(jiān)測(cè);
  鋁合金等材料在大氣環(huán)境中局部腐蝕敏感性;
  鋁合金的絲狀腐蝕(filiform corrosion);
  硅烷L(zhǎng)-B膜修飾金屬表面的結(jié)構(gòu)和穩(wěn)定性;
  鋅-鐵偶合金屬界面區(qū)的電位分布特征;
  磷化處理鋅表面的碳微粒污染檢測(cè);
  檢測(cè)微小金屬表面的應(yīng)力分布和應(yīng)力腐蝕開裂;
  檢測(cè)金屬和半導(dǎo)體材料微小區(qū)域的表面清潔度,缺陷,損傷和均勻程度;
  研究和評(píng)價(jià)氣相緩蝕劑性能;
  電化學(xué)傳感器;
  微區(qū)掃描電化學(xué)是提供給電化學(xué)及材料測(cè)試以*空間分辨率的一個(gè)測(cè)試平臺(tái)。微區(qū)掃描電化學(xué)每個(gè)VersaSCAN都具有高分辨率,長(zhǎng)工作距離的閉環(huán)定位系統(tǒng)并安裝于抗震光學(xué)平臺(tái)上。不微區(qū)掃描電化學(xué)同的輔助選件都安裝于定位系統(tǒng)上,輔助選件包括,如電位計(jì),壓電振動(dòng)單元,或者激光傳感器,為不同掃描探針試驗(yàn),定位系統(tǒng)提供不同的功能。微區(qū)掃描電化學(xué)的VersaSTAT恒電位儀和Signal Recovery 7230鎖相放大器和定位系統(tǒng)整合在一起,由以太網(wǎng)來控制,保證小信號(hào)的測(cè)量。
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